# VIP资源_光刻工艺参数工具 v1.0

## 🔬 工具简介

半导体FAB光刻Recipe管理与Overlay分析系统，支持Recipe管理、工艺窗口计算、Overlay误差分析、良率影响评估。

## 🚀 快速开始

```bash
pip install -r requirements.txt
python litho_tool.py
```

## 📋 功能特性

- **Recipe管理**：Recipe CRUD、参数查看、状态管理
- **工艺窗口计算**：DoF/EL计算、工艺窗口图绘制
- **Overlay误差分析**：X/Y方向Overlay统计、套刻精度趋势图
- **良率影响评估**：Recipe对良率的影响分析、改进建议

## 📊 内置数据

- 20组Recipe数据（覆盖9种光刻层次）
- 曝光能量、NA、Sigma、照明类型、DoF、EL等完整参数
- 30天 × 3晶圆/天 × 9个shot = 810条Overlay数据/Recipe
- 产品：IC-CMOS-12nm/28nm, Flash-NAND-96L, Power-MOSFET-SiC

## 🎛️ 工艺参数

- 光刻胶类型：AR-P 6200, AZ 5214E, JSR M300Y等
- 光源：ArF 193nm
- 显影：TMAH 2.38%, KOH 0.5N, NaOH 1%
- 照明：Annular, Dipole, Quasar, Conventional

## ⚙️ 系统要求

- Python 3.8+
- matplotlib（工艺窗口图、趋势图）
- numpy（统计计算）
- Tkinter（Python内置）
