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刻蚀侧壁钝化与副产物再沉积形貌分析器
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纵向速率 v_v = depth/t ；横向速率 v_l = (顶宽-底宽)/2/t ；侧壁角 theta = atan(v_v/v_l)
锥角偏差 dt = 90 - theta ；钝化抑制 v_l = 2.0*exp(-t_pass/6.0) ；深宽比 HAR = depth/底宽
判定口径：|dt| <= 2 度优；2-5 度可接受；> 5 度需调工艺

【逐片纵向/横向速率、锥角与深宽比】
  片号     步骤            时间s  v_v(nm/s)  v_l(nm/s)      锥角deg    偏差deg        HAR     沉积当量nm 目标deg
  W-01   主刻蚀            90      6.667     0.0994      89.15     0.85       3.29       0.90        90
  W-02   主刻蚀            75      6.667     0.2707      87.68     2.32       3.59       0.62        90
  W-03   深孔            100      8.000     0.7360      84.74     5.26      10.99       0.67        90
  W-04   浅槽             72      6.250     0.1396      88.72     1.28       3.22       0.84        90
  W-05   过刻蚀            88      7.955     0.3778      87.28     2.72       5.24       0.73        90

【有效钝化厚度反推与抑制倍数】
  片号           设定钝化nm         反推有效nm         抑制倍数       底宽预测nm 与实测一致性
  W-01           18.0          18.01        20.11       182.10 吻合(偏差 0.00 nm)
  W-02           12.0          12.00         7.39       139.40 吻合(偏差 0.00 nm)
  W-03            6.0           6.00         2.72        72.80 吻合(偏差 0.00 nm)
  W-04           16.0          15.97        14.33       139.90 吻合(偏差 0.00 nm)
  W-05           10.0          10.00         5.29       133.50 吻合(偏差 0.00 nm)

【侧壁钝化厚度-横向刻蚀敏感度表】
  片号             倍率         钝化nm    v_l(nm/s)        锥角deg 偏差deg
  W-01         0.50         9.00       0.4463        86.17     3.83
  W-01         0.75        13.50       0.2108        88.19     1.81
  W-01         1.00        18.00       0.0996        89.14     0.86
  W-01         1.50        27.00       0.0222        89.81     0.19
         ------------------------------------------------------------
  W-02         0.50         6.00       0.7358        83.70     6.30
  W-02         0.75         9.00       0.4463        86.17     3.83
  W-02         1.00        12.00       0.2707        87.68     2.32
  W-02         1.50        18.00       0.0996        89.14     0.86
         ------------------------------------------------------------
  W-03         0.50         3.00       1.2131        81.38     8.62
  W-03         0.75         4.50       0.9447        83.27     6.73
  W-03         1.00         6.00       0.7358        84.75     5.25
  W-03         1.50         9.00       0.4463        86.81     3.19
         ------------------------------------------------------------
  W-04         0.50         8.00       0.5272        85.18     4.82
  W-04         0.75        12.00       0.2707        87.52     2.48
  W-04         1.00        16.00       0.1390        88.73     1.27
  W-04         1.50        24.00       0.0366        89.66     0.34
         ------------------------------------------------------------
  W-05         0.50         5.00       0.8692        83.76     6.24
  W-05         0.75         7.50       0.5730        85.88     4.12
  W-05         1.00        10.00       0.3778        87.28     2.72
  W-05         1.50        15.00       0.1642        88.82     1.18
         ------------------------------------------------------------

【气压对离子散射（行向性因子）影响】
  气压mtorr         行向性因子 方向性说明
  5               0.980 方向性好，侧壁趋垂直
  10              0.962 方向性好，侧壁趋垂直
  20              0.926 散射增强，需加强钝化
  30              0.893 散射增强，需加强钝化
  40              0.862 散射增强，需加强钝化
  50              0.833 散射明显，侧壁易外倾
  片号        气压mtorr          行向性因子 方向性判定
  W-01           15          0.943 好
  W-02           30          0.893 一般
  W-03           12          0.954 好
  W-04           40          0.862 一般
  W-05           25          0.909 一般
  说明：行向性因子 f = 1/(1+0.004*p)。气压越高，离子经鞘层受散射越强，f 越低、横向刻蚀越重。

【形貌判定与不合格清单】
  片号        锥角deg    偏差deg      HAR         判定 说明
  W-01      89.15     0.85     3.29          优 侧壁接近垂直，钝化与偏压匹配良好
  W-02      87.68     2.32     3.59        可接受 轻微外倾，可继续但需监控钝化厚度
  W-03      84.74     5.26    10.99       需调工艺 外倾明显（bowing），需提高钝化或降低气压/偏压
  W-04      88.72     1.28     3.22          优 侧壁接近垂直，钝化与偏压匹配良好
  W-05      87.28     2.72     5.24        可接受 轻微外倾，可继续但需监控钝化厚度

【结论与行动建议】
  1) 优 2 片：W-01、W-04
     W-01：锥角 89.15 度（偏差 0.85 度），HAR = 3.29，钝化 18 nm 抑制倍数 20.1 倍，形貌达标
     W-04：锥角 88.72 度（偏差 1.28 度），HAR = 3.22，钝化 16 nm 抑制倍数 14.3 倍，形貌达标
  2) 可接受 2 片：W-02、W-05
     W-02：锥角 87.68 度（偏差 2.32 度），建议把钝化厚度由 12 nm 提到 16 nm 以压到 2 度内
     W-05：锥角 87.28 度（偏差 2.72 度），建议把钝化厚度由 10 nm 提到 13 nm 以压到 2 度内
  3) 需调工艺 1 片：W-03
     W-03：锥角 84.74 度（偏差 5.26 度）且 HAR 达 10.99，横向速率 0.736 nm/s 偏高；
        建议钝化厚度由 6 nm 加到 12 nm，或把偏压从 -260 V 适当降低以减小横向刻蚀
  4) 钝化反推结论：各片反推有效钝化厚度与设定值一致，说明抑制模型可用；抑制倍数越高，横向速率越低、侧壁越陡。
  5) 气压提醒：气压由 5 mtorr 升到 50 mtorr，行向性因子由 0.980 降到 0.833，
     侧壁外倾风险随之上升，垂直侧壁工艺宜取低气压并配套足够钝化。
  6) 行动顺序：先按本表锁定偏差 > 5 度的片号 -> 补钝化/降偏压 -> 复测锥角与底宽，确认副产物沉积未造成开口堵塞。
