MES数据仓库设计：星型模型与维度建模
[粉丝专享] MES数据仓库设计：星型模型与维度建模 【摘要】本文针对半导体Fab生产中常见的MES自动化类问题，从问题背景、原因定位、完整解决步骤到避坑经验，给出可直接落地复用的实战方案。文章适合F...
[公开] FAB女工程师的处境：真实与偏见
![[公开] FAB女工程师的处境：真实与偏见](https://www.yezhihui.cn/zb_users/upload/2026/08/20260813002943178655218375595.png)
[公开] FAB女工程师的处境：真实与偏见 【摘要】半导体产线上女工程师不少，但越往上走越少，这是行业里一个人人看得见却少有人系统讨论的现象。本文不做立场宣言，只做工程分析：用一家Fab连续四年的人事...
化学机械研磨CMP：终点检测与碟形效应控制
[粉丝专享] 化学机械研磨CMP：终点检测与碟形效应控制 【摘要】本文针对半导体Fab生产中常见的设备工艺类问题，从问题背景、原因定位、完整解决步骤到避坑经验，给出可直接落地复用的实战方案。文章适合F...
Ppk与Cpk的关系：短期与长期过程能力对比
[粉丝专享] Ppk与Cpk的关系：短期与长期过程能力对比 【摘要】本文针对半导体Fab生产中常见的SPC过程控制类问题，从问题背景、原因定位、完整解决步骤到避坑经验，给出可直接落地复用的实战方案。文...
[粉丝专享] 批次良率趋势追踪：缓慢下滑最难被发现
![[粉丝专享] 批次良率趋势追踪：缓慢下滑最难被发现](https://www.yezhihui.cn/zb_users/upload/2026/08/20260813002953178655219347544.png)
[粉丝专享] 批次良率趋势追踪：缓慢下滑最难被发现 【摘要】良率突然掉五个点，全厂都会在两小时内知道；良率每周掉零点一个点，半年过去可能没人察觉。本文讲清缓慢漂移为什么会绕过常规Shewhart控制图...
MES与MDC集成：设备实时状态监控全链路
[粉丝专享] MES与MDC集成：设备实时状态监控全链路 【摘要】本文针对半导体Fab生产中常见的MES自动化类问题，从问题背景、原因定位、完整解决步骤到避坑经验，给出可直接落地复用的实战方案。文章适...
[粉丝专享] 设备状态模型(E10)：Up/Down时间的正确归类
![[粉丝专享] 设备状态模型(E10)：Up/Down时间的正确归类](https://www.yezhihui.cn/zb_users/upload/2026/08/20260813002956178655219698325.png)
[粉丝专享] 设备状态模型(E10)：Up/Down时间的正确归类 【摘要】SEMI E10定义的六大设备状态是Fab所有稼动率指标的地基，但绝大多数工厂在落地时都把等料、换靶材、Qual验证这几类时...
[粉丝专享] 计数型SPC(p图/u图)：缺陷率监控的正确姿势
![[粉丝专享] 计数型SPC(p图/u图)：缺陷率监控的正确姿势](https://www.yezhihui.cn/zb_users/upload/2026/08/20260813003000178655220027836.png)
[粉丝专享] 计数型SPC(p图/u图)：缺陷率监控的正确姿势 【摘要】大部分工程师熟悉的Xbar-R图属于计量型SPC，遇到缺陷数、不良率这类计数型数据时套用就会出错。本文讲清p图、np图、c图、u...
[粉丝专享] 把EDA分析交给Code Interpreter：一句话出良率报告
![[粉丝专享] 把EDA分析交给Code Interpreter：一句话出良率报告](https://www.yezhihui.cn/zb_users/upload/2026/08/20260813003004178655220423068.png)
[粉丝专享] 把EDA分析交给Code Interpreter：一句话出良率报告 【摘要】这里的EDA指探索性数据分析（Exploratory Data Analysis），不是电子设计自动化。本文记...
光刻分辨率提升：OPC技术的实际效果评估
[粉丝专享] 光刻分辨率提升：OPC技术的实际效果评估 【摘要】本文针对半导体Fab生产中常见的设备工艺类问题，从问题背景、原因定位、完整解决步骤到避坑经验，给出可直接落地复用的实战方案。文章适合Fa...