[公开] 良率数据可视化:一张图说服管理层投钱 【摘要】本文从管理层的决策视角出发,讲清楚良率数据可视化怎么做:图表选型、一页纸仪表盘设计、技术指标到财务语言的翻译,并用一个真实案例演示如何用一张图说...
[公开] 半导体数据湖落地:把电性数据、设备日志与缺陷图片装进同一套体系 【摘要】失效分析要同时看WAT电性、CP测试、设备日志、AOI缺陷图和FA报告,但这些数据分散在五套系统里,格式从数值表到图片...
[公开] 刻蚀设备PM后首件:为什么总是不稳定,以及怎么把恢复时间压掉一半 【摘要】刻蚀机做完预防性维护复机,首件CD偏移、需要反复seasoning、恢复动辄六七个小时,是Fab里最常见也最少被系统...
[公开] test program调试:良率异常先别怪工艺 【摘要】本文聚焦半导体晶圆测试环节中Test Program调试这一关键工程活动,系统阐述良率异常时"先查Test Program...
[公开] 设备维护排程优化器:预防性维护的自动化 【摘要】本文从半导体Fab预防性维护排程的实战痛点出发,介绍如何利用运筹学算法(整数规划+启发式算法)构建设备维护排程优化器,在保障产能的前提下最小化...
[公开] 光刻机产能优化:曝光节拍的瓶颈分析 【摘要】一台标称每小时180片的浸没式光刻机,实际只跑到132片,原厂说是使用方式问题,产线说是设备问题。本文用日志把单片节拍拆成上下料、对准、调平、曝光...
[公开] 良率与工艺窗口:为什么要留足margin 【摘要】为了提产能把光刻焦深margin压掉三成,当月良率没掉,三个月后一场梅雨季让我们赔了整整两周产出。本文讲清工艺窗口的定义与量化方法、量测误差...
[公开] MES灾备方案:宕机12次后我们做的改造 【摘要】一年宕机十二次、单次最长四小时十七分,纸单作业救不了产线。本文完整复盘我们的MES高可用与灾备改造:会话无状态化、数据库半同步自动切换、接口...
[公开] SPC异常自动告警:从触发到通知的最短链路 【摘要】从SPC判异到工程师真正动手,我们厂原本要花四十七分钟,一次CD超限因此多报废三批。本文把告警链路拆成量测入库、规则判定、事件生成、路由分...
[公开] 半导体时序数据异常检测:Transformer实战调参 【摘要】把Transformer用到刻蚀腔体时序异常检测上,第一版效果还不如三倍标准差。本文完整复盘从事件级F1零点四一到零点七八的调...