WaferMap缺陷模式识别:环状/边缘/中心各说明什么

叶志辉5天前2
WaferMap缺陷模式识别:环状/边缘/中心各说明什么
WaferMap缺陷模式识别:环状/边缘/中心各说明什么 2026-07-29 发布 | 良率工程 晶圆缺陷图是良率工程师的眼睛,每种空间模式背后都对应一类物理成因。环状想边缘效应,中心想腔体气路,条...

背面供电(BSPDN):新工艺带来的检测挑战

叶志辉5天前1
背面供电(BSPDN):新工艺带来的检测挑战
背面供电(BSPDN):新工艺带来的检测挑战 背面供电网络的技术原理、与传统工艺的差异,以及对缺陷检测的新挑战 把供电网络搬到芯片背面,听起来简单——但FAB为此付出的代价超乎想象 一、背景故事:摩尔...

从砂子到芯片:FAB这28天到底发生了什么

叶志辉5天前2
从砂子到芯片:FAB这28天到底发生了什么
从砂子到芯片:FAB这28天到底发生了什么 芯片制造全流程科普,从硅片进入FAB到封装测试的完整旅程 拆开一颗芯片,里面有几十亿个晶体管——它们从一粒砂子到成品的28天经历了什么 一、背景故事:一粒砂...

OEE实战:一条线从58%到82%的完整改善路径(附工具代码)

叶志辉5天前2
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OEE实战:一条线从58%到82%的完整改善路径(附工具代码) 发布时间:2026-07-28 09:00 | 阅读:3,540 | 原创 01 问题背景:被点名的那条58%的线 去年年中的一...

EWMA控制图对小偏移更灵敏:参数lambda怎么定

叶志辉5天前2
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EWMA控制图对小偏移更灵敏:参数lambda怎么定 比X-bar更适合先进制程的指数加权移动平均控制图实战指南 [ SPC过程控制 ] 某先进制程fab的扩散车间在一次例行SPC审查中发现了一个令人...

光刻工程师的一天:FAB皇冠下的纳米级较真

叶志辉5天前2
光刻工程师的一天:FAB皇冠下的纳米级较真
光刻工程师的一天:FAB皇冠下的纳米级较真 2026-07-28 发布 | 岗位实战 光刻是 FAB 的皇冠,决定最小线宽,一台高端机几千万到上亿欧元,是印钞机也是瓶颈机。这篇讲清光刻人的一天:早班检...

Nelson八大判异规则实战:只开规则1你会漏掉80%异常

叶志辉5天前0
Nelson八大判异规则实战:只开规则1你会漏掉80%异常
Nelson八大判异规则实战:只开规则1你会漏掉80%异常 2026-07-28 发布 | 技术实战 控制图判异业界通用 Nelson 八大规则,但很多工程师只开了规则1(点出界),漏掉的趋势、偏移、...

OEE实战:一条线从58%到82%的完整改善路径(附工具代码)

叶志辉5天前3
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OEE实战:一条线从58%到82%的完整改善路径(附工具代码) 发布时间:2026-07-28 09:00 | 阅读:3,540 | 原创 01 问题背景:被点名的那条58%的线 去年年中的一...

Nelson八大判异规则实战:只开规则1你会漏掉80%异常

叶志辉5天前2
Nelson八大判异规则实战:只开规则1你会漏掉80%异常
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半导体光刻工程师的一天:凌晨3点被叫回FAB是什么样的体验

叶志辉5天前2
半导体光刻工程师的一天:凌晨3点被叫回FAB是什么样的体验
半导体光刻工程师的一天:凌晨3点被叫回FAB是什么样的体验 原创不易,转发请注明出处 | blog.csdn.net/yeflashzhihui 一、外界不知道的FAB工程师 我是一名光刻工程师,在F...