Scribe Lane分析：划片崩边的工艺改善
[公开] Scribe Lane分析：划片崩边的工艺改善 【摘要】本文针对半导体Fab生产中常见的良率工程类问题，从问题背景、原因定位、完整解决步骤到避坑经验，给出可直接落地复用的实战方案。文章适合F...
FAB工程师谈学习：如何持续保持竞争力
[公开] FAB工程师谈学习：如何持续保持竞争力 【摘要】本文针对半导体Fab生产中常见的职场科普类问题，从问题背景、原因定位、完整解决步骤到避坑经验，给出可直接落地复用的实战方案。文章适合Fab工艺...
[公开] 半导体人才缺口：产业扩张下的用工现实
![[公开] 半导体人才缺口：产业扩张下的用工现实](https://www.yezhihui.cn/zb_users/upload/2026/08/20260813003049178655224960122.png)
[公开] 半导体人才缺口：产业扩张下的用工现实 【摘要】新Fab一座接一座投产，工艺工程师、设备工程师的招聘却越来越难。本文用数据和一线观察拆解半导体人才缺口的真实结构：缺口集中在哪些岗位、为什么培养...
多模态大模型：结合设备振动信号与良率预测
[公开] 多模态大模型：结合设备振动信号与良率预测 【摘要】本文针对半导体Fab生产中常见的半导体AI融合类问题，从问题背景、原因定位、完整解决步骤到避坑经验，给出可直接落地复用的实战方案。文章适合F...
[公开] 半导体专利怎么写：工程师的加分项
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[公开] 半导体专利怎么写：工程师的加分项 【摘要】晋升答辩时，别人都有专利你没有，短板立刻显现。但很多工程师觉得专利高不可攀：创新点不够大、不会写交底书、怕泄密、怕被驳回。本文从专利的三性讲起，给出...
外延生长缺陷控制：层错与位错的来源分析
[粉丝专享] 外延生长缺陷控制：层错与位错的来源分析 【摘要】本文针对半导体Fab生产中常见的设备工艺类问题，从问题背景、原因定位、完整解决步骤到避坑经验，给出可直接落地复用的实战方案。文章适合Fab...
[粉丝专享] 用SQL分析良率：那些必会的窗口函数
![[粉丝专享] 用SQL分析良率：那些必会的窗口函数](https://www.yezhihui.cn/zb_users/upload/2026/08/20260813003055178655225549163.png)
[粉丝专享] 用SQL分析良率：那些必会的窗口函数 【摘要】还在把良率数据导出到Excel里手工透视？批次排名、环比变化、同批内wafer对比，这些分析在SQL里用窗口函数几行就能搞定。本文从窗口函数...
[粉丝专享] 光刻显影缺陷：桥连/残留/塌陷的排查
![[粉丝专享] 光刻显影缺陷：桥连/残留/塌陷的排查](https://www.yezhihui.cn/zb_users/upload/2026/08/20260813003058178655225872412.png)
[粉丝专享] 光刻显影缺陷：桥连/残留/塌陷的排查 【摘要】光刻后检查（ADI）缺陷率突然爬升，桥连、残留、塌陷三类缺陷轮番出现，工艺工程师最容易陷入"调了剂量调聚焦、调了聚焦调胶厚&quo...
离子注入剂量均匀性：扫描方式与剂量修正
[公开] 离子注入剂量均匀性：扫描方式与剂量修正 【摘要】本文针对半导体Fab生产中常见的设备工艺类问题，从问题背景、原因定位、完整解决步骤到避坑经验，给出可直接落地复用的实战方案。文章适合Fab工艺...
工艺窗口优化：DoE实战找到最佳工艺参数
[公开] 工艺窗口优化：DoE实战找到最佳工艺参数 【摘要】本文针对半导体Fab生产中常见的良率工程类问题，从问题背景、原因定位、完整解决步骤到避坑经验，给出可直接落地复用的实战方案。文章适合Fab工...