良率数据的陷阱:抽样测试掩盖的真相

叶志辉5天前5
良率数据的陷阱:抽样测试掩盖的真相
[粉丝专享] 良率数据的陷阱:抽样测试掩盖的真相 【摘要】本文针对半导体Fab生产中常见的良率工程类问题,从问题背景、原因定位、完整解决步骤到避坑经验,给出可直接落地复用的实战方案。文章适合Fab工艺...

半导体批次追溯系统:从晶圆到芯片的全链路

叶志辉5天前3
半导体批次追溯系统:从晶圆到芯片的全链路
半导体批次追溯系统:从晶圆到芯片的全链路 Lot Traceability实战架构,含SECS-GEM对接、良率追溯与召回管理 一批晶圆有良率异常,要查是哪个机台、哪个时间点、哪个操作导致的——查不出...

用LangChain搭FAB问答机器人:踩过的5个坑

叶志辉5天前4
用LangChain搭FAB问答机器人:踩过的5个坑
[公开] 用LangChain搭FAB问答机器人:踩过的5个坑 【摘要】本文针对半导体Fab生产中常见的半导体AI融合类问题,从问题背景、原因定位、完整解决步骤到避坑经验,给出可直接落地复用的实战方案...

半导体碳中和:绿色制造的工程师视角

叶志辉5天前4
半导体碳中和:绿色制造的工程师视角
[公开] 半导体碳中和:绿色制造的工程师视角 【摘要】本文针对半导体Fab生产中常见的前沿趋势类问题,从问题背景、原因定位、完整解决步骤到避坑经验,给出可直接落地复用的实战方案。文章适合Fab工艺工程...

CUSUM累积和图实战:抓住X-bar抓不到的缓慢漂移

叶志辉5天前3
CUSUM累积和图实战:抓住X-bar抓不到的缓慢漂移
CUSUM累积和图实战:抓住X-bar抓不到的缓慢漂移 累积和控制图原理、参数设定与Fab生产监控实战案例 0. 背景故事 某12英寸Fab的扩散工艺工程师张工最近很苦恼:负责的氧化炉(Oxidati...

半导体行业周期:寒冬里工程师怎么自处

叶志辉5天前3
半导体行业周期:寒冬里工程师怎么自处
[公开] 半导体行业周期:寒冬里工程师怎么自处 【摘要】本文针对半导体Fab生产中常见的职场科普类问题,从问题背景、原因定位、完整解决步骤到避坑经验,给出可直接落地复用的实战方案。文章适合Fab工艺工...

缺陷图像处理:OpenCV提取缺陷特征

叶志辉5天前5
缺陷图像处理:OpenCV提取缺陷特征
缺陷图像处理:OpenCV提取缺陷特征 用OpenCV对缺陷SEM/光学图像做预处理、分割、特征提取(面积/圆度/方向),构建缺陷特征库 ───────────────────────────────...

光刻焦距窗口(DOF):工艺窗口的多因子分析

叶志辉5天前4
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光刻焦距窗口(DOF):工艺窗口的多因子分析 光刻焦深(DOF)与NA/波长/光刻胶厚度的关系,焦距窗口的DOE优化与良率影响 ────────────────────────────────────...

用Embedding给缺陷图分类:无需标注也能聚类良率杀手

叶志辉5天前1
用Embedding给缺陷图分类:无需标注也能聚类良率杀手
用Embedding给缺陷图分类:无需标注也能聚类良率杀手 向量嵌入 + 余弦相似度实战,无需人工打标从WaferMap图中自动发现异常模式 0. 背景故事 某8英寸Fab的缺陷工程师李工最近遇到一个...

背面供电(BSPDN):新工艺带来的检测挑战

叶志辉5天前1
背面供电(BSPDN):新工艺带来的检测挑战
背面供电(BSPDN):新工艺带来的检测挑战 背面供电网络的技术原理、与传统工艺的差异,以及对缺陷检测的新挑战 把供电网络搬到芯片背面,听起来简单——但FAB为此付出的代价超乎想象 一、背景故事:摩尔...