FAB加班文化：如何优雅地保护自己，同时不被当成不合群的人
[公开] FAB加班文化：如何优雅地保护自己，同时不被当成不合群的人 【摘要】晶圆厂的加班很少来自某个人的恶意，它是设备连续运转、异常不可预测、人力配置紧绷三者叠加出来的结构性结果。本文拆解加班在Fa...
半导体数据湖落地：把电性数据、设备日志与缺陷图片装进同一套体系
[公开] 半导体数据湖落地：把电性数据、设备日志与缺陷图片装进同一套体系 【摘要】失效分析要同时看WAT电性、CP测试、设备日志、AOI缺陷图和FA报告，但这些数据分散在五套系统里，格式从数值表到图片...
刻蚀设备PM后首件：为什么总是不稳定，以及怎么把恢复时间压掉一半
[公开] 刻蚀设备PM后首件：为什么总是不稳定，以及怎么把恢复时间压掉一半 【摘要】刻蚀机做完预防性维护复机，首件CD偏移、需要反复seasoning、恢复动辄六七个小时，是Fab里最常见也最少被系统...
test program调试：良率异常先别怪工艺
[公开] test program调试：良率异常先别怪工艺 【摘要】本文聚焦半导体晶圆测试环节中Test Program调试这一关键工程活动，系统阐述良率异常时"先查Test Program...
设备维护排程优化器：预防性维护的自动化
[公开] 设备维护排程优化器：预防性维护的自动化 【摘要】本文从半导体Fab预防性维护排程的实战痛点出发，介绍如何利用运筹学算法（整数规划+启发式算法）构建设备维护排程优化器，在保障产能的前提下最小化...
光刻机产能优化：曝光节拍的瓶颈分析
[公开] 光刻机产能优化：曝光节拍的瓶颈分析 【摘要】一台标称每小时180片的浸没式光刻机，实际只跑到132片，原厂说是使用方式问题，产线说是设备问题。本文用日志把单片节拍拆成上下料、对准、调平、曝光...
良率与工艺窗口：为什么要留足margin
[公开] 良率与工艺窗口：为什么要留足margin 【摘要】为了提产能把光刻焦深margin压掉三成，当月良率没掉，三个月后一场梅雨季让我们赔了整整两周产出。本文讲清工艺窗口的定义与量化方法、量测误差...
MES灾备方案：宕机12次后我们做的改造
[公开] MES灾备方案：宕机12次后我们做的改造 【摘要】一年宕机十二次、单次最长四小时十七分，纸单作业救不了产线。本文完整复盘我们的MES高可用与灾备改造：会话无状态化、数据库半同步自动切换、接口...
SPC异常自动告警：从触发到通知的最短链路
[公开] SPC异常自动告警：从触发到通知的最短链路 【摘要】从SPC判异到工程师真正动手，我们厂原本要花四十七分钟，一次CD超限因此多报废三批。本文把告警链路拆成量测入库、规则判定、事件生成、路由分...
半导体时序数据异常检测：Transformer实战调参
[公开] 半导体时序数据异常检测：Transformer实战调参 【摘要】把Transformer用到刻蚀腔体时序异常检测上，第一版效果还不如三倍标准差。本文完整复盘从事件级F1零点四一到零点七八的调...