[粉丝专享] 离子注入退火激活率:如何验证掺杂效果 【摘要】注入剂量对了不代表掺杂效果就对。本文讲清退火激活率的物理含义、四探针方块电阻与霍尔量测的适用边界、SIMS与扩展电阻的取舍,并给出一套可落地...
[粉丝专享] 半导体产能负荷分析:瓶颈识别与产能爬坡 【摘要】本文讲清晶圆厂产能负荷模型怎么建、瓶颈工序怎么识别、爬坡期产能怎么预测。从可用工时口径、qual矩阵、排队论出发,给出基于MES数据的日滚...
[粉丝专享] 用扩散模型做缺陷数据增强:小样本良率建模救星 【摘要】缺陷分类模型在Fab落地最大的障碍是稀有缺陷样本极少。本文完整记录用扩散模型为晶圆缺陷图做数据增强的工程实践,包含训练超参、生成质量...
[粉丝专享] 工程师的时间管理:救火与规划的平衡 【摘要】本文用一个薄膜工艺组连续12周的真实改造记录,拆解Fab工程师"整天救火、没时间规划"的结构性成因,给出异常分级响应矩阵、...
[粉丝专享] 缺陷密度关联分析:相关不等于因果的实证 【摘要】本文针对半导体Fab生产中常见的数据工具类问题,从问题背景、原因定位、完整解决步骤到避坑经验,给出可直接落地复用的实战方案。文章适合Fab...
[粉丝专享] 刻蚀气体配比优化:DOE找最佳工艺点 【摘要】本文针对半导体Fab生产中常见的设备工艺类问题,从问题背景、原因定位、完整解决步骤到避坑经验,给出可直接落地复用的实战方案。文章适合Fab工...
[粉丝专享] 设备状态模型(E10):Up/Down时间的正确归类 【摘要】SEMI E10定义的六大设备状态是Fab所有稼动率指标的地基,但绝大多数工厂在落地时都把等料、换靶材、Qual验证这几类时...
[粉丝专享] 湿法腐蚀均匀性:药液配比与温度控制要点 【摘要】本文针对半导体Fab生产中常见的设备工艺类问题,从问题背景、原因定位、完整解决步骤到避坑经验,给出可直接落地复用的实战方案。文章适合Fab...
[粉丝专享] 化学气相沉积CVD:反应气体配比优化实践 【摘要】本文针对半导体Fab生产中常见的设备工艺类问题,从问题背景、原因定位、完整解决步骤到避坑经验,给出可直接落地复用的实战方案。文章适合Fa...
[粉丝专享] 用SQL分析良率:那些必会的窗口函数 【摘要】还在把良率数据导出到Excel里手工透视?批次排名、环比变化、同批内wafer对比,这些分析在SQL里用窗口函数几行就能搞定。本文从窗口函数...