当前位置:首页 > 半导体工具包 > 正文内容

非参数检验分析器|SPC实战工具

叶志辉2周前 (10-10)半导体工具包21

这个工具解决什么问题

颗粒数、缺陷数、尺寸偏移这类数据天生右偏,长尾在右侧。此时用均值+t 检验会高估显著性, 得出「改造有效」的假结论。秩检验只比较数据的秩序,对偏态与极端值稳健,是这类数据 唯一站得住的口径。本工具一次给出配对检验、两独立样本检验与多组检验三种场景。

数据不服从正态分布时,别再用均值+t 检验;用秩检验得到不依赖分布形状的显著性结论。

输入数据格式

数据文件 nonparam_sample.csv,列顺序为:组别、改造前颗粒数、改造后颗粒数。

示例首行:设备A,39.6,46.0

nonparam_sample.csv:列 = 组别 / 改造前颗粒数 / 改造后颗粒数。 自有数据替换同名文件即可;脚本顶部可调 ALPHA 显著性水平。

示例输出(真实运行结果节选)

==============================================================================
非参数检验分析报告(Wilcoxon 符号秩 / Mann-Whitney U / Kruskal-Wallis H)
==============================================================================

一、数据概览
  样本:3 台设备改造前后的颗粒数(每台 20 次采样),共 60 组观测。
  检验口径:显著性水平 alpha = 0.05;全部为双尾检验。

  组别     改造前 中位数(IQR)      改造后 中位数(IQR)     降幅(中位数)
  ------------------------------------------------------------------------
  设备A        39.6 ( 34.0, 45.7)       25.2 ( 19.8, 33.2)      36.4%
  设备B        35.5 ( 33.0, 42.3)       27.1 ( 20.4, 35.2)      23.4%
  设备C        43.5 ( 35.6, 61.3)       36.6 ( 31.6, 45.7)      15.8%

  正态性快速判断(改造后全样本):偏度 = 1.95,峰度 = 6.95。
  偏度明显大于 0(右偏),且直方图长尾在右侧 —— 这类数据用均值+t 检验
  会高估显著性,因此改用秩检验(不依赖分布形状,只比较秩序)。

二、Wilcoxon 符号秩检验(配对样本,改造前 vs 改造后)
  H0:改造前后颗粒数的差值中位数 = 0;H1:差值中位数 != 0。
  有效配对数 n = 60(剔除差值为 0 的配对)
  正秩和 W+ = 1492.5,负秩和 W- = 337.5(W+ 越小说明下降越普遍)
  正态近似 z = -4.251,双尾 p = 2.160e-05
  效应量 r = |z| / sqrt(2n) = 0.388
  结论:拒绝 H0 —— 改造后颗粒数显著下降。

三、Mann-Whitney U 检验(两独立样本,改造后组间对比)
  检验                U       z        p          效应量r   结论
  ---------------

数据概览与正态性快判、Wilcoxon 符号秩(配对)、Mann-Whitney U(两两对比,含效应量)、 Kruskal-Wallis H(多组整体)与 Bonferroni 事后比较、结论与建议。

运行方法

python nonparam_test_analyzer.py

可调参数与计算口径

· 秩变换:并列值取平均秩;方差含并列校正项 Sigma(t^3-t) · Wilcoxon:W+ / W-,正态近似 z,效应量 r = |z| / sqrt(2n) · Mann-Whitney:U = min(U1, U2),连续性校正,效应量 r = |z| / sqrt(N) · Kruskal-Wallis:H 并列校正后按卡方(自由度 k-1)求 p,卡方上尾用不完全伽马函数实现

p < ALPHA 判显著;多组事后比较用 Bonferroni 校正(单次门槛 ALPHA / 比较次数)。 示例数据为自动生成的三台设备改造前后颗粒数,结论(整体有效、设备C 落后)即为真实结论。

脚本顶部集中了主要阈值与常量:REPORT=os.path.join(BASE, "示例输出报告.txt")。改完直接重跑即可,不必改动计算逻辑。

会生成哪些文件

运行后除控制台输出外,还会生成:nonparam_sample.csv、示例输出报告.txt。

脚本里的主要处理步骤

  • chi2_sf():卡方分布上尾概率 P(X > x),自由度 k。
  • rankdata():平均秩(并列取秩均值)。
  • tie_sum():并列校正项 Σ(t^3 - t)。
  • wilcoxon_signed_rank():配对样本:H0 为差值中位数 = 0。返回 (W+, z, p, n_eff, 效应量)。
  • mann_whitney():两独立样本:H0 为两总体分布位置相同。返回 (U, z, p, r_eff)。
  • kruskal_wallis():多独立样本:H0 为各组分布位置相同。返回 (H_c, df, p)。

以上步骤在脚本中是分开的函数,可以单独调用或按需替换其中一段,不必整体重写。

工具中出现的字段与提示

  • 卡方分布上尾概率 P(X > x),自由度 k。
  • 平均秩(并列取秩均值)。
  • 并列校正项 Σ(t^3 - t)。
  • 两独立样本:H0 为两总体分布位置相同。返回 (U, z, p, r_eff)。
  • 多独立样本:H0 为各组分布位置相同。返回 (H_c, df, p)。
  • 改造前颗粒数
  • 改造后颗粒数
  • 一、数据概览
  • 样本:%d 台设备改造前后的颗粒数(每台 %d 次采样),共 %d 组观测。
  • 检验口径:显著性水平 alpha = %.2f;全部为双尾检验。
  • 正态性快速判断(改造后全样本):偏度 = %.2f,峰度 = %.2f。
  • 偏度明显大于 0(右偏),且直方图长尾在右侧 —— 这类数据用均值+t 检验
  • 会高估显著性,因此改用秩检验(不依赖分布形状,只比较秩序)。
  • 二、Wilcoxon 符号秩检验(配对样本,改造前 vs 改造后)
  • H0:改造前后颗粒数的差值中位数 = 0;H1:差值中位数 != 0。
  • 有效配对数 n = %d(剔除差值为 0 的配对)
  • 正秩和 W+ = %.1f,负秩和 W- = %.1f(W+ 越小说明下降越普遍)
  • 正态近似 z = %.3f,双尾 p = %.3e

其余字段以界面与示例报告为准。

下载与文件清单

压缩包内包含:主程序脚本、示例数据文件、示例输出报告、中文说明文档,以及同主题 AI 提示词一套。解压后按说明运行即可,示例数据可直接试跑。

主程序文件:nonparam_test_analyzer.py。

下载 非参数检验分析器 工具包(zip)

本站工具免费下载,无需注册。工具为 Python 脚本,Python 3.8 及以上环境可直接运行,核心功能尽量不依赖第三方库。

常见问题

输入数据要准备成什么样?
按 示例首行中的列顺序准备即可,共 3 列:组别、改造前颗粒数、改造后颗粒数。列为空或格式不符时结果会失真,建议先用示例数据试跑一遍。

阈值可以改成我们自己的标准吗?
可以,脚本顶部已把主要阈值与常量集中声明,按自己产线的标准修改后重跑即可,不需要改计算逻辑。

附赠的提示词怎么用?
把提示词与自己的数据一起交给大模型,可以让它按同一套口径帮你改写分析流程或扩展报告字段。

示例数据能直接跑吗?
可以。示例数据与主程序在同一压缩包内,解压后直接运行即可看到完整输出,确认无误再替换成自己的台账。

同分类的其它工具

所属分类 SPC与质量分析工具包,也可回到 工具资源包下载页 按分类查找。

相关阅读

标签: 14119

相关文章

晶圆良率分析Python工具免费下载|Wafer Map+良率分层报表

晶圆良率分析Python工具免费下载|Wafer Map+良率分层报表

工具简介读取CP测试数据,自动绘制Wafer Map、统计每片晶圆良率与FAIL bin分布、边缘/中心分层对比,输出中文分析报告。资料包内容· 主程序 wafer_yield_analyzer.py...

MES生产报表自动化Python工具免费下载|OEE+停机损失周报

MES生产报表自动化Python工具免费下载|OEE+停机损失周报

工具简介读取工单与停机记录,自动计算OEE三大指标、统计停机损失TOP,输出Excel周报。资料包内容· 主程序 mes_report.py(Python 3.8+,核心功能零第三方依赖)· 自动生成...