离子注入剂量能量计算器｜工艺参数分析工具
这个工具解决什么问题
工艺参数的耦合关系往往决定良率，单参数优化常常白费。
=== Ion Implant Dose/Energy Calculator === Version: v1.0 Platform: Windows, Python 3.8+
[Function] Input dose/energy/beam current, calculates: · Implant time · Projected range Rp (nm) · Lateral straggle (nm) · Total implanted atoms Built-in 5 presets (B/P/As/BF2), plots: · Lateral dose profile (Gaussian curve) · Depth concentration profile · Wafer dose heatmap (polar) · Process summary table
[Usage] 1. Run: python 离子注入剂量能量计算器.py 2. Select preset or enter parameters, click "Calculate" 3. Or click "Example" / "Load Preset"
[Built-in Presets] · Boron Punch-through (50keV) · BF2 Medium (80keV) · Phosphorus Deep (100keV) · Arsenic S/D (70keV)
[Dependencies] Python 3.8+, numpy, matplotlib
可调参数与计算口径
脚本顶部集中了主要阈值与常量：FONT_ENTRY=('SimHei', 10)、FONT_LABEL=('SimHei', 10)、PRESETS={。改完直接重跑即可，不必改动计算逻辑。
脚本里的主要处理步骤
compute_inject_time()：计算注入时间(秒)gaussian_profile()：横向高斯剂量分布compute_depth_profile()：估算注入深度分布参数 (投影射程Rp, straggle sigma)
以上步骤在脚本中是分开的函数，可以单独调用或按需替换其中一段，不必整体重写。
工具中出现的字段与提示
- 计算注入时间(秒)
- 横向高斯剂量分布
- 估算注入深度分布参数 (投影射程Rp, straggle sigma)
- 离子注入剂量能量计算器
下载与文件清单
压缩包内包含：主程序脚本、示例数据文件、示例输出报告、中文说明文档。解压后按说明运行即可，示例数据可直接试跑。
主程序文件：离子注入剂量能量计算器.py。
本站工具免费下载，无需注册。工具为 Python 脚本，Python 3.8 及以上环境可直接运行，核心功能尽量不依赖第三方库。
常见问题
阈值可以改成我们自己的标准吗？
可以，脚本顶部已把主要阈值与常量集中声明，按自己产线的标准修改后重跑即可，不需要改计算逻辑。
示例数据能直接跑吗？
可以。示例数据与主程序在同一压缩包内，解压后直接运行即可看到完整输出，确认无误再替换成自己的台账。
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分类归属：半导体工艺参数分析工具包；完整清单在 工具资源包下载页。
