光刻工艺参数工具｜工艺参数分析工具
这个工具解决什么问题
半导体工艺窗口窄，参数之间互相牵制。这工具把相关参数放在同一套口径下算。
半导体FAB光刻Recipe管理与Overlay分析系统，支持Recipe管理、工艺窗口计算、Overlay误差分析、良率影响评估。
🚀 快速开始
pip install -r requirements.txt python litho_tool.py
📋 功能特性
· Recipe管理：Recipe CRUD、参数查看、状态管理 · 工艺窗口计算：DoF/EL计算、工艺窗口图绘制 · Overlay误差分析：X/Y方向Overlay统计、套刻精度趋势图 · 良率影响评估：Recipe对良率的影响分析、改进建议
📊 内置数据
· 20组Recipe数据（覆盖9种光刻层次） · 曝光能量、NA、Sigma、照明类型、DoF、EL等完整参数 · 30天 × 3晶圆/天 × 9个shot = 810条Overlay数据/Recipe · 产品：IC-CMOS-12nm/28nm, Flash-NAND-96L, Power-MOSFET-SiC
🎛️ 工艺参数
· 光刻胶类型：AR-P 6200, AZ 5214E, JSR M300Y等 · 光源：ArF 193nm · 显影：TMAH 2.38%, KOH 0.5N, NaOH 1% · 照明：Annular, Dipole, Quasar, Conventional
⚙️ 系统要求
· Python 3.8+ · matplotlib（工艺窗口图、趋势图） · numpy（统计计算） · Tkinter（Python内置）
可调参数与计算口径
脚本顶部集中了主要阈值与常量：DEVELOPERS=["TMAH 2.38%", "KOH 0.5N", "NaOH 1%"]、RECIPE_DATA=gen_recipe_data()。改完直接重跑即可，不必改动计算逻辑。
脚本里的主要处理步骤
脚本内部按固定列组织数据：Recipe名、产品、层次、光刻胶。
gen_recipe_data()：生成20组Recipe数据gen_overlay_data()：为Recipe生成Overlay数据
以上步骤在脚本中是分开的函数，可以单独调用或按需替换其中一段，不必整体重写。
工具中出现的字段与提示
- 生成20组Recipe数据
- 为Recipe生成Overlay数据
- 🔬 VIP光刻工艺参数工具 - 半导体FAB光刻系统 v1.0
- 🔬 半导体FAB光刻工艺参数管理与Overlay分析系统
- 📋 Recipe管理
- 🎯 工艺窗口
- 📏 Overlay误差分析
- 📉 良率影响评估
- 🔍 搜索:
- 🔎 搜索
- 🔄 刷新
- ➕ 新建Recipe
- ✏️ 编辑选中
- Recipe名
- 胶厚(nm)
- 能量(mJ)
- 焦距(μm)
- 显影时间(s)
其余字段以界面与示例报告为准。
下载与文件清单
压缩包内包含：主程序脚本、示例数据文件、示例输出报告、中文说明文档。解压后按说明运行即可，示例数据可直接试跑。
主程序文件：litho_tool.py。
本站工具免费下载，无需注册。工具为 Python 脚本，Python 3.8 及以上环境可直接运行，核心功能尽量不依赖第三方库。
常见问题
阈值可以改成我们自己的标准吗？
可以，脚本顶部已把主要阈值与常量集中声明，按自己产线的标准修改后重跑即可，不需要改计算逻辑。
示例数据能直接跑吗？
可以。示例数据与主程序在同一压缩包内，解压后直接运行即可看到完整输出，确认无误再替换成自己的台账。
同一工具的其它收录名称
本站早期还以以下名称收录过同一款工具，下载内容完全一致：
- 光刻工艺工具集
- 半导体光刻工艺参数v2
同分类的其它工具
分类归属：半导体工艺参数分析工具包；完整清单在 工具资源包下载页。
