[公开] 半导体数据湖落地：把电性数据、设备日志与缺陷图片装进同一套体系
![[公开] 半导体数据湖落地：把电性数据、设备日志与缺陷图片装进同一套体系](https://www.yezhihui.cn/zb_users/upload/2026/08/20260813002816178655209635891.png)
[公开] 半导体数据湖落地：把电性数据、设备日志与缺陷图片装进同一套体系 【摘要】失效分析要同时看WAT电性、CP测试、设备日志、AOI缺陷图和FA报告，但这些数据分散在五套系统里，格式从数值表到图片...
[公开] 刻蚀设备PM后首件：为什么总是不稳定，以及怎么把恢复时间压掉一半
![[公开] 刻蚀设备PM后首件：为什么总是不稳定，以及怎么把恢复时间压掉一半](https://www.yezhihui.cn/zb_users/upload/2026/08/20260813002818178655209870064.png)
[公开] 刻蚀设备PM后首件：为什么总是不稳定，以及怎么把恢复时间压掉一半 【摘要】刻蚀机做完预防性维护复机，首件CD偏移、需要反复seasoning、恢复动辄六七个小时，是Fab里最常见也最少被系统...
[公开] test program调试：良率异常先别怪工艺
![[公开] test program调试：良率异常先别怪工艺](https://www.yezhihui.cn/zb_users/upload/2026/08/20260813002820178655210054848.png)
[公开] test program调试：良率异常先别怪工艺 【摘要】本文聚焦半导体晶圆测试环节中Test Program调试这一关键工程活动，系统阐述良率异常时"先查Test Program...
[公开] 设备维护排程优化器：预防性维护的自动化
![[公开] 设备维护排程优化器：预防性维护的自动化](https://www.yezhihui.cn/zb_users/upload/2026/08/20260813002821178655210127043.png)
[公开] 设备维护排程优化器：预防性维护的自动化 【摘要】本文从半导体Fab预防性维护排程的实战痛点出发，介绍如何利用运筹学算法（整数规划+启发式算法）构建设备维护排程优化器，在保障产能的前提下最小化...
[粉丝专享] 过程能力研究报告：一份能过审的模板长什么样
![[粉丝专享] 过程能力研究报告：一份能过审的模板长什么样](https://www.yezhihui.cn/zb_users/upload/2026/08/20260813002823178655210365456.png)
[粉丝专享] 过程能力研究报告：一份能过审的模板长什么样 【摘要】本文系统介绍半导体Fab场景下过程能力研究（Cpk分析）的完整方法论，从数据采集、分布检验、能力指标计算到报告撰写规范，给出一套可直接...
[粉丝专享] AI推荐维护窗口：把PM从固定周期改成预测性
![[粉丝专享] AI推荐维护窗口：把PM从固定周期改成预测性](https://www.yezhihui.cn/zb_users/upload/2026/08/20260813002824178655210447619.png)
[粉丝专享] AI推荐维护窗口：把PM从固定周期改成预测性 【摘要】本文围绕半导体Fab设备维护方式从固定周期PM向预测性维护（PdM）转型这一核心命题，从问题背景、原因分析、落地步骤到避坑经验，系统...
[粉丝专享] 工程师副业的边界：竞业限制与合规红线到底在哪里
![[粉丝专享] 工程师副业的边界：竞业限制与合规红线到底在哪里](https://www.yezhihui.cn/zb_users/upload/2026/08/20260813002826178655210652993.png)
[粉丝专享] 工程师副业的边界：竞业限制与合规红线到底在哪里 【摘要】本文系统梳理半导体与制造业工程师做副业时的四层法律约束：保密义务、竞业限制、职务发明与用工冲突。给出可执行的内容脱敏五要素法、十条...
[粉丝专享] 用Plotly做交互式良率图：从静态截图到钻取分析的完整落地
![[粉丝专享] 用Plotly做交互式良率图：从静态截图到钻取分析的完整落地](https://www.yezhihui.cn/zb_users/upload/2026/08/20260813002828178655210872809.png)
[粉丝专享] 用Plotly做交互式良率图：从静态截图到钻取分析的完整落地 【摘要】本文讲清如何用Plotly与Dash把良率分析从静态PNG升级为可钻取的交互看板。覆盖lot到die四层数据模型设计...
[公开] 光刻机产能优化：曝光节拍的瓶颈分析
![[公开] 光刻机产能优化：曝光节拍的瓶颈分析](https://www.yezhihui.cn/zb_users/upload/2026/08/20260813002829178655210970259.png)
[公开] 光刻机产能优化：曝光节拍的瓶颈分析 【摘要】一台标称每小时180片的浸没式光刻机，实际只跑到132片，原厂说是使用方式问题，产线说是设备问题。本文用日志把单片节拍拆成上下料、对准、调平、曝光...
[公开] 良率与工艺窗口：为什么要留足margin
![[公开] 良率与工艺窗口：为什么要留足margin](https://www.yezhihui.cn/zb_users/upload/2026/08/20260813002831178655211117197.png)
[公开] 良率与工艺窗口：为什么要留足margin 【摘要】为了提产能把光刻焦深margin压掉三成，当月良率没掉，三个月后一场梅雨季让我们赔了整整两周产出。本文讲清工艺窗口的定义与量化方法、量测误差...