配方版本管理工具｜工艺参数分析工具
这个工具解决什么问题
参数漂移早期很难察觉，靠人盯不现实。这工具把趋势判定做成可重跑的检查。
本工具是专为半导体晶圆厂（FAB）设计的配方（Recipe）全生命周期管理系 统，涵盖配方主数据管理、工艺参数管理、版本对比、审批流程、变更历史追 溯、配方导入导出等完整功能。界面采用深色主题，中文界面，操作简便。
============================================================================ 半导体FAB配方版本管理工具 (Recipe Version Control) 版本: v1.0 | 适用平台: Windows ============================================================================
功能列表
1. 配方主数据管理 · 配方编号（唯一标识） · 工艺模块（刻蚀/沉积/光刻/注入/CMP/热处理） · 设备类型 · 版本号 · 创建人、创建日期 · 状态（草稿/验证中/已批准/已废弃）
2. 工艺参数管理 · 每个配方可管理多个工艺参数 · 参数包含：参数名、当前值、单位、最小值、最大值、描述 · 支持参数的新增、编辑、删除 · 内置6个真实工艺配方，每个含5~8个参数
3. 版本对比功能 · 选择同一配方的两个版本进行对比 · Canvas可视化界面，高亮显示参数差异 · 绿色背景=数值增加，红色背景=数值减少 · 新增/删除参数以不同背景色区分 · 差异值以颜色编码（绿色=增加，红色=减少）
4. 审批流程 · 支持状态流转：草稿 → 验证中 → 已批准 · 废弃状态可手动设置 · 每步流转自动记录变更历史 · 已批准配方禁止直接删除
5. 变更历史记录 · 完整记录每次操作（创建/提交/修改/批准/废弃） · 记录操作人、操作时间、变更详情 · 按时间倒序展示
6. 配方导出/导入 · 导出单个配方为JSON格式文件 · 支持导入JSON文件恢复配方 · 同名配方自动检测并提示
7. 搜索与过滤 · 支持配方编号/模块/设备/创建人搜索 · 支持按状态过滤（全部/草稿/验证中/已批准/已废弃）
内置配方清单
REC-ET-001 刻蚀模块 ICP刻蚀机 v1.2 已批准 (6参数) REC-DE-002 沉积模块 PECVD v2.0 已批准 (8参数) REC-LI-003 光刻模块 步进光刻机 v1.5 验证中 (7参数) REC-IM-004 注入模块 离子注入机 v1.0 草稿 (6参数) REC-CM-005 CMP模块 CMP设备 v3.1 已批准 (8参数) REC-RT-006 热处理模块 RTP设备 v1.0 已废弃 (6参数)
运行环境
Python 版本: 3.8 或更高 依赖库: tkinter（Python内置，无需额外安装） 字体: SimHei（微软黑体，Windows自带）
如提示缺少SimHei字体，程序将自动回退到系统默认字体。 推荐安装 SimHei 字体以获得最佳显示效果。
安装与运行
方式一：直接运行 python recipe_manager.py
方式二：双击运行（Windows） 确保.py文件关联到Python解释器
快捷键
Ctrl + N 新建配方 Ctrl + E 编辑配方 Ctrl + D 删除配方 Ctrl + W 打开版本对比 Delete 删除选中配方 F5 刷新列表
数据存储
所有配方数据存储在内存中，程序退出后不自动持久化。 如需保存数据，请使用「导出配方」功能将配方导出为JSON文件。 程序重启后可使用「导入配方」功能恢复数据。
操作说明
1. 启动程序后，左侧列表显示所有配方。 2. 点击列表项可查看配方详情（概览/参数/历史）。 3. 双击列表项可快速编辑配方。 4. 状态流转：选择配方 → 点击「状态流转」按钮 → 确认变更。 5. 版本对比：点击「版本对比」→ 选择配方 → 选版本 → 点击开始对比。
【新建配方步骤】 ① 点击「新建配方」按钮 ② 填写配方基本信息（编号必填） ③ 在工艺参数区点击「添加参数」填入参数 ④ 点击「保存」完成创建
【导出/导入步骤】 导出：选中配方 → 点击「导出配方」→ 选择保存位置 → 确定 导入：点击「导入配方」→ 选择JSON文件 → 确认
脚本里的主要处理步骤
get_builtin_recipes()：内置6个配方数据
以上步骤在脚本中是分开的函数，可以单独调用或按需替换其中一段，不必整体重写。
工具中出现的字段与提示
- 配方数据模型
- 工艺参数模型
- 变更记录模型
- 内置6个配方数据
- 刻蚀模块
- ICP刻蚀机
- 张工程师
- 铝金属刻蚀标准配方
- RF功率
- 上电极功率
- 偏压功率
- 腔室气压
- Cl2流量
- 氯气流量
- BCl3流量
- 三氯化硼流量
- 刻蚀时间
- 总刻蚀时间
其余字段以界面与示例报告为准。
下载与文件清单
压缩包内包含：主程序脚本、示例数据文件、示例输出报告、中文说明文档。解压后按说明运行即可，示例数据可直接试跑。
主程序文件：recipe_manager.py。
本站工具免费下载，无需注册。工具为 Python 脚本，Python 3.8 及以上环境可直接运行，核心功能尽量不依赖第三方库。
常见问题
示例数据能直接跑吗？
可以。示例数据与主程序在同一压缩包内，解压后直接运行即可看到完整输出，确认无误再替换成自己的台账。
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本工具归在 半导体工艺参数分析工具包，全部工具见 工具资源包下载页。
